?磁控離子濺射儀主要用于在各種材料表面鍍上一層薄膜。磁控離子濺射儀的工作原理基于物理氣相沉積(PVD)技術(shù),具體來說,它利用輝光放電產(chǎn)生等離子體,并通過磁場約束帶電粒子,提高濺射效率。工作原理磁控離子濺射儀的工作原理主要包括以下幾個(gè)步驟:?電子在電場的作用下加速飛向基片,與氬原子碰撞,使其電離產(chǎn)生氬離子和新的電子?。?氬離子在電場作用下加速轟擊靶材,使靶材表面的原子或分子濺射出來?。?濺射出的中性靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜?。?二次電子在磁場的作用下產(chǎn)生E×B漂移,被束...
查看更多